半導体素子デバイス・電子部品・MEMS製造などフォトリソグラフィーを必要とする研究開発分野において、微細度の高いパターン露光ができる量産向け全自動マスクアライナーです。
ウエハー自動搬送機構、自動画像アライメント機構搭載。カセットでの投入・取出しが可能です。シンプル構造で低価格を実現しました。
高精度パターニングを実現するため、試料基板をセットするステージ部はご希望の材料に合わせてカスタム設計を行っております。半導体ウエハー、化合物ウエハー、ガラス、フィルムなど、さまざまな材料に対応が可能です。また、ウエハーなどの円形試料のほかにも角型試料や厚み試料、あるいは不定形の場合でもモノに合わせて設計製作をいたします。簡単な部品取替操作で異なる形状に対応可能なため、1台でさまざまな材料・サイズ・形状をご使用いただけるのが三明の露光装置の特徴です。
ブロード波長の平行光源を搭載しており、さまざまな感光特性を持つレジストや感光性材料に対してもUV照射が可能です。コンタクト露光、プロキシミティ露光に加えハードコンタクト機能も搭載可能です。観察系も可視光、近赤外光など多種取り揃えております。
製品特長
- 高い汎用性（〇型□型試料対応）
- 信頼性の高い球面軸受 平行機構
- シンプル構造で低価格を実現
- Φ4インチ、Φ6インチ、Φ8インチ仕様
- カセットtoカセット自動搬送
- 露光光源：照度分布±5％以内
露光解像度
- ソフトコンタクトL/S：3μm
- ハードコンタクトL/S：1μm
アライメント精度
- Top-side：±1μm
- Bottom-side：±3μm