
ご要望に応じてさまざまな機能をカスタマイズすることが可能なカスタム対応検査装置です。
半導体・化合物半導体(Si・SiC・GaAs・InP・GaN・Ga₂O₃・LiTaO₃など)半導体加工品(接合ウエハー・エピウエハー・蒸着ウエハー・パターニングなど)透明体(ガラス・水晶・サファイアなど)に加え、フィルムの検査も可能です。
エリアカメラ・ラインカメラ、透過光観察・反射光観察、明視野・暗視野など、さまざまな観察方法を組み合わせることで、ミクロンオーダーの微細な異物、欠損、キズ、ピンホールなどを検出し、顕微鏡画像で観察することができます。
オプションを追加することで機能アップも可能です。
基板表裏面でのパターンずれ、ウエハーエッジの外観検査、フィルムの分断状態の検査など、さまざまな用途の装置構成も取り揃えております。
基本仕様では、ワークサイズは最大300×300まで対応。
ミクロとマクロの検査ユニットを搭載して各種検査への対応や、複合機能で検査レビューや加工個所の修正確認など、お客様の目的に合わせたシステム構築ができます。
PCアプリケーションの検査ソフトを使用します。
サンプルテストも可能ですのでお気軽にお問い合わせください。
製品特長
- さまざまなワークに対応
- 高性能顕微鏡、高精度X-Y ステージを搭載することにより、1㎛サイズの欠陥を検出
- 自動搬送に対応(オプション)
- 分りやすい検査ソフトウェア
- 300mm×300mmサイズなど大型ワークに対応
- 1㎛サイズの異物、欠損、キズ、ムラなどを自動検出
- 精度の高いマッピングデータと欠陥リストの生成が可能
- ミクロとマクロの検査ユニットを搭載