
半導体製造用レジストをウエハー等の試料基板に塗布する装置です。レジスト以外にもコーティングや絶縁膜形成など、さまざまな用途でのご使用も可能です。どのような塗布手段が適しているかわからないという方も是非ご相談ください。
〈スピンコーター〉
平坦な基板上に均一に膜を形成するスピンコーターです。コンパクトでローコストな研究開発向けの装置です。回転数は最大6000rpm、2段階設定が可能です。ウエハー以外の試料に薬液を塗布したいという際にも特殊設計した試料台にて対応可能。円形、角型試料にも対応、ワークに合わせて試料台を製作いたします。
〈スプレーコーター〉
低粘度から高粘度の薬液に対応し、微細な凹凸にも塗布が可能なスプレーコーターです。微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、キャビティ、トレンチ構造部分など、スピンナーでは塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成することができます。
塗布条件により、凹凸のある試料に対して平らに膜を形成する埋め込み塗布、凹凸に倣わせるように均一に膜を形成する倣わせ塗布の2パターンに対応。反射防止膜などの薬液をガラス材に均一にスプレーする用途、絶縁膜を形成する用途にも好適です。
サンプルテストも可能ですのでお気軽にお問い合わせください。
製品特長
- 微細な凹凸に塗布が可能
- 低粘度から高粘度の薬液に対応
- 数㎛から数百㎛の膜厚に対応
- 立体レジスト塗布・MEMSデバイス対応