マニュアル露光装置

半導体素子デバイス・電子部品・MEMS製造などフォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができるコンタクト露光装置です。

高精度パターニングを実現するため、試料基板をセットするステージ部はご希望の材料に合わせてカスタム設計を行っております。半導体ウエハー、化合物ウエハー、ガラス、フィルムなど、あらゆる材料に対応可能です。また、ウエハーなどの円形試料のほかにも角型試料や厚み試料、あるいは不定形の場合でもモノに合わせて設計製作をいたします。簡単な部品取替操作で異なる形状に対応可能なため、1台でさまざまな材料・サイズ・形状をご使用いただけるのが三明の露光装置の特徴です。

ブロード波長の平行光源を搭載しており、さまざまな感光特性を持つレジストや感光性材料に対してもUV照射が可能です。コンタクト露光、プロキシミティ露光に加えハードコンタクト機能も搭載可能。観察系も可視光、近赤外光、ローコスト版顕微鏡など多種取り揃えております。

ご使用予定のワーク、ご要望をお聞かせください。